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曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

   光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤，因?yàn)檫@次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅(jiān)膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。

  曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式，使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。

  對于酚醛樹脂體系的光刻膠，PEB可以擴(kuò)散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且，PEB溫度不同時(shí)，感光劑的擴(kuò)散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時(shí)，消除駐波效應(yīng)最明顯。

  對于化學(xué)放大型光刻膠，在后烘過程中，光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護(hù)反應(yīng)(Deprotection Reaction)，又稱為脫保護(hù)反應(yīng)。

   大量實(shí)驗(yàn)表明，烤膠臺(tái)烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時(shí)， 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。

烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤性能

智能型烤膠機(jī)

加熱尺寸：220*220mm（可定制）,適用于?200毫米（8英寸）圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品；

溫度范圍：RT～300°C 

溫度精度：0.1°C；

溫度均勻性：≤±0.5℃；

電動(dòng)頂針調(diào)節(jié)高度: 0～30mm；

加熱臺(tái)表面：耐腐蝕硬質(zhì)陽極氧化鋁制成；

控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級(jí)PLC控制，實(shí)現(xiàn)在指定時(shí)間內(nèi)自動(dòng)升降，可以定時(shí)取片；

潔凈烘箱

無塵等級(jí)：Class100;     

溫度范圍：RT～300/450℃；
溫度均勻度：200℃±3℃;    

溫度波動(dòng)度：±0.5℃（空載）              

工作尺寸（mm）：

450×450×450

500×500×500

600×700×800（可定制）        

可擴(kuò)展功能：

氧濃度檢測，無塵無氧烘箱

智能聯(lián)網(wǎng)功能，MES等工業(yè)自動(dòng)化軟件

掃碼槍，掃碼溯源，一鍵讀取

自動(dòng)門控，上位機(jī)程控，機(jī)械手搬運(yùn)產(chǎn)品