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HMDS烘箱在太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)中的用途

太陽(yáng)能電池片光刻蝕刻加工的基本原理：

1. 光敏材料涂覆：首先，在待加工的基底表面涂覆一層光敏感材料（例如光刻膠）。該材料對(duì)于特定波長(zhǎng)的光會(huì)發(fā)生化學(xué)或物理變化。涂覆的光敏材料形成了一個(gè)稱為“光刻膠層”的薄膜。

2. 光罩設(shè)計(jì)和準(zhǔn)備

3. 曝光

4. 圖案形成

5. 刻蝕。

然而在光敏材料涂覆前需要將電池片基底做疏水性處理，該處理工藝需要借助HMDS增粘劑。一般通過(guò)氣相沉積的方法將HMDS處理在襯底表面。該設(shè)備為上海雋思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能：

溫度范圍：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作界面：人機(jī)界面

工藝編輯：可儲(chǔ)存5個(gè)配方

氣體：N2進(jìn)氣閥，自動(dòng)控制

容積：定制

產(chǎn)品兼容性：2~12寸晶圓及碎片、方片等

HMDS烘箱適用行業(yè)：MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。