就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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PI無(wú)氧烘箱工藝流程
來(lái)源:
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作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
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發(fā)布時(shí)間: 2023-04-06
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PI光刻膠是一種高性能、高精度的光刻膠，被廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、MEMS等領(lǐng)域
PI無(wú)氧烘箱工藝的必要性：
PI光刻膠的預(yù)烘是將其涂覆在襯底上后，在特定溫度下進(jìn)行一段時(shí)間的烘千，使PI溶液中的溶劑揮發(fā)掉，PI形成一定的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)并增強(qiáng)其附著性。
PI無(wú)氧烘箱工藝要求（參考）：
在低氧狀態(tài)下使用
真空加熱，升溫至1xx℃
再溫至1xx℃(約xh),保溫約 30min;
繼續(xù)升溫至x00℃，視涂層厚度不同加熱10-x0min
保溫 約60min；
降溫至100℃以下
PI無(wú)氧烘箱性能：
溫度：室溫+50～400℃
氧濃度：≤10ppm
真空度：1Torr
冷卻裝置：輔助降溫
控制方式：可程式運(yùn)行
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